[기술뉴스]삼성, EUV 공정 국산화 첫 성공 🚀
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삼성전자, EUV 공정 국산화의 역사적 첫걸음
삼성전자가 극자외선(EUV) 공정에 국산 블랭크 마스크를 도입하기로 결정했습니다[1]. 이는 삼성전자가 EUV 공정에 국산 마스크를 사용하는 것이 처음이며, 그동안 해외에 의존해온 반도체 핵심 소재의 국산화가 현실화되는 순간입니다[1].
블랭크 마스크란 무엇인가
블랭크 마스크는 반도체 회로를 웨이퍼에 전사하기 전 원판 역할을 하는 핵심 소재입니다[7]. 포토마스크의 원재료로 사용되며, 특히 EUV 공정은 10나노미터(㎚) 이하의 초미세 공정에 필수적입니다[7]. 그동안 이 소재는 전량 해외에서 수입되었으며, 특히 일본 의존도가 높았습니다[4].
2분기 도입, 단계적 확대 전략
삼성전자는 2분기 적용을 목표로 국내 에스앤에스텍의 EUV 블랭크 마스크를 평가 중입니다[1]. 현재 최종 마무리 단계로, 이달 중 또는 늦어도 다음달에 평가가 완료될 것으로 알려졌습니다[1]. 업계 관계자는 "평가가 막바지에 이르렀다"며 "2분기 도입을 예정하고 있다"고 확인했습니다[1].
초기에는 일부 EUV 라인에만 국산 블랭크 마스크를 적용할 예정입니다[1]. EUV가 고가의 반도체 공정인 만큼, 품질과 생산성 등을 충분히 확인한 후 점진적으로 적용 범위를 늘려갈 전망입니다[1].
에스앤에스텍의 역할과 공급망 다변화
이번 국산화의 핵심 파트너는 에스앤에스텍입니다. 동사는 EUV 블랭크 마스크를 공급하기 위해 지난해 하반기 용인에 전용 공장을 설립했습니다[1]. 삼성전자 공급 후에는 수요에 맞춰 추가 증설할 계획으로 알려졌습니다[1].
이번 결정은 단순한 부품 국산화를 넘어 반도체 공급망 다변화의 중요한 이정표입니다. 그동안 해외 의존도가 높았던 블랭크 마스크 시장에서 국내 기업이 경쟁력을 갖추게 되면서, 반도체 산업의 자립도를 높이는 계기가 될 것으로 기대됩니다.